欧州連合（EU）の欧州委員会（EC）は，欧州の企業／研究機関による半導体研究プロジェクト「NANOCMOS」を立ち上げ，2400万ユーロ（約2982万ドル）の資金を提供する。仏伊合弁のSTMicroelectronicsがフランスで現地時間3月8日に明らかにしたもの。NANOCMOSは，LSIの性能および集積度の向上を目指し，素材／製造方法／アーキテクチャ／接続技術を研究する。
27カ月間かけて行う第1段階では，45nmプロセス対応CMOS技術を検討すると同時に，「現行技術の限界と考えられている」（STMicroelectronics社）32nmおよび22nmプロセスの技術的検討も始める。2006年に開始する第2段階では，32nmと22nmプロセスの実現性を確認する。
また別の研究プロジェクト「Microelectronics Development for European Applications（MEDEA＋）」と連携し，2006年に商用300mmウエーハ製造工場で45nmプロセス技術を適用し，技術検証を行う。現在の計画では，米Motorola，オランダRoyal Philips Electronics，STMicroelectronicsが共同運営しているフランスのクロルにある「Crolles2」工場で作業する予定という。
現在NANOCMOSには，ドイツInfineon Technologies，Philips社，STMicroelectronics社，フランスIon Beam Services，ドイツISILTEC，ベルギーMagwel，フランスのACIES Europeといった企業のほか，CEA Leti（フランス），IMEC（ベルギー），FhG（ドイツ），CNRN（フランス）傘下の8つの研究所，Technical University of Chemnitz（ドイツ）の研究所が参加している。
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