半導体製造装置メーカーの米Applied Materialsは米国時間7月18日，米AMDが同社のイオン注入システム「Quantum LEAP（Low Energy Advanced Processing）」を追加購入したと発表した。
AMD社は今回購入したQuantum LEAPを，ドレスデン（ドイツ）の工場「Fab 30」における既存の「AMD Athlon」プロセサや，今後リリースする第8世代のAMD Athlonおよび「AMD Opteron」プロセサの製造に利用するためという。
AMD社Fab 30のDiffusion/RTA and Implant部門モジュール担当であるPeter Adam氏は，「昨年，数台のQuantum LEAPをFab 30に導入したところ，最新製品の生産がすぐに需要に追いついた。新たに購入したQuantum LEAPはSOI技術を用いた0.13μmルールのプロセサ製造に利用する」と説明した。
Applied Materials社のイオン注入システムは高電流注入技術を用いており，エネルギーは200eVから120keV。「0.18μmルール以下の半導体製造において，低エネルギー注入は非常に重要である。また，我が社のQuantumシステムは設置面積が小さく，200mmと300mmのウエーハに対応しているため，米国，アジア，日本，欧州の大手半導体メーカーに採用されている」（Applied Materials社）
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