資料の紹介

　真空技術、プラズマ技術、薄膜技術、微細加工技術は、装置メーカーや材料メーカー、デバイスメーカーをはじめとする多くの分野で、幅広い用途に使われている。しかし、構造解析、熱解析、流体解析、電磁界解析ソフトウエアがCAEとして一般的に利用されているのに比べると、希薄気体やプラズマのシミュレーションは、まだ広く活用されているとは言えない。

　本資料では、真空薄膜技術などで必要になる多くのプロセスに関するシミュレーションが可能な国産のソフトウエアを紹介する。真空装置内の希薄気体の流れ解析や、プラズマ現象、ターゲット・基板表面の物理・化学反応を統合的に解析できる数少ない商用ソフトウエアという。複数の機能モジュールで構成されており、モジュールを組み合わせることにより、要件に適したシミュレーションが可能になる。

　半導体製造技術、プラズマプロセス、真空技術における、（1）装置の設計・開発・改良・評価、（2）材料・デバイスの開発・製造、（3）プロセス技術の予測・開発・改良、を効率化することにより、実験の工数や試作コストの軽減などに効果を発揮する。

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