米NanoMarketsが，ナノスケールに対応した半導体製造装置に関する調査結果を米国時間6月30日に発表した。それによると，2005年における同装置の市場規模は4億ドルで，2010年には30億4000万ドルに拡大するという。

　NanoMarkets社は，液浸リソグラフィや超紫外線（EUV）リソグラフィ，電子ビーム・リソグラフィ（EPL），ナノインプリント・リソグラフィ（NIL）といった新しいリソグラフィ技術と，ディップペン・ナノリソグラフィ（DPN）やインクジェット・プリンティングといった直接的なパターン形成手法について調べた。

　主な調査結果は以下の通り。

・既存のリソグラフィ技術が置き換わる兆候は今後もない。32nm以降のプロセスでは，複数の手法を使用することになる

・45nmおよび32nmのプロセスは，国際半導体技術ロードマップ（ITRS：International Technology Roadmap for Semiconductors）の予測よりも早く広まる

・今後，半導体製造装置はマスクおよびディスプレイの製造や修復，生命化学分野，材料化学分野などで汎用ナノスケール装置として使われる機会が増える

・ナノチューブや導電性高分子といった新素材により，新たな製造装置の必要性が高まる

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