半導体製造装置／材料に関する業界団体Semiconductor Equipment and Materials International（SEMI）は，半導体およびフラット・パネル・ディスプレイ（FPD）製造業界向けの新標準規格，25件を公開した。SEMIが米国時間2月5日に明らかにしたもの。SEMI Standardと呼ばれるこれら標準規格は，CD-ROMで購入可能なほか，同団体のWWWサイトでダウンロードできる。

　新標準規格は，液晶ディスプレイ（LCD）マスクの品質域定義ガイドライン，半導体露光プロセスにおけるデータ管理フォーマット，単結晶炭化シリコン研磨ウエーハ仕様など25件。「日本の標準化委員会の主導により，今回多くの標準を策定することができた」（SEMI国際標準／マイクロマシン担当ディレクタのBettina Weiss氏）

　そのうち11件のタイトルは以下の通り。

・SEMI D37 Specification for LCD Pellicles

・SEMI D38 Guidelines for Quality Area of LCD Masks

・SEMI E127.1 Provisional Specification for SECS-II Protocol for Integrated Measurement Module Communications (IMMC)

・SEMI E131 Specification for the Physical Interface of an Integrated Measurement Module (IMM) onto 300 mm Using BOLTS-M

・SEMI E132 Specification for Equipment Client Authentication and Authorization

・SEMI E133 Provisional Specification for Automated Process Control Systems Interface

・SEMI M55.1 Standard for 50.8 mm Round Polished Monocrystalline 4H and 6H Silicon Carbide Wafers

・SEMI P41 Specification for Mask Defect Data Handling with XML, Between Defect Inspection Tools, Repair Tools and Review Tools

・SEMI P42 Specification of Reticle Data for Automatic Reciprocal Transfer to Wafer Exposure System

・SEMI P43 Photomask Qualification Terminology

・SEMI T12 Specification of Tracing Jigs and Implements

　残りの14件は，流量調整機と流量計に関する標準規格（F82～F95）である。

　SEMIは年に3回SEMI Standardを公開しており，これまでに発行した標準規格の数は670件を超えるという。

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