半導体製造装置・材料に関する業界団体SEMI（Semiconductor Equipment and Materials International）は米国時間5月6日に，シリコン・ウエーハに関する調査結果を発表した。それによると，2003年第1四半期におけるシリコン・ウエーハの出荷面積は11億7500万平方インチで，前期の11億3400万平方インチと比べて4％増加した。
SEMI議長兼CEOのStanley T. Myers氏は，「世界的に先行き不透明感が広がる中，前期と比べて出荷面積が増加したことは，半導体の需要が回復しつつある良い兆しだ。工場稼働率は2003年に改善に向かうだろう」と述べた。しかし「長びく不況でシリコン・メーカーが設備投資を控えているため，一部のウエーハ製品で入手が困難になる」（Myers氏）と付け加えた。
■加工タイプ別シリコン・ウエーハの出荷面積（単位：100万平方インチ）
2002年Q1 2002年Q4 2003年Q1
鏡面 758 860 882
エピタキシャル 204 223 243
ノンポリッシュ 49 51 50
合計 1,011 1,134 1,175
出典：SEMI
なお同調査では，メーカーからエンド・ユーザーに出荷した，バージン・テストを含む鏡面，エピタキシャル，ノンポリッシュ・ウエーハを対象にしている。
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