「D1X」を新設するオレゴン州ヒルズボロのキャンパス
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米Intelは現地時間2010年10月19日、次世代半導体の製造や研究開発のために、米国で60億～80億ドルの設備投資を実行すると発表した。
具体的には、オレゴン州ヒルズボロの自社キャンパス内に、「D1X」と呼ぶ研究開発や量産準備のための工場を新設し、2013年の稼働を目指す。またヒルズボロの「D1C」と「D1D」、アリゾナ州チャンドラの「Fab 12」と「Fab 32」の合計四つの半導体工場を22nmプロセスの製造技術に対応させる。2011年内にも最初の22nmプロセサ「Ivy Bridge」（開発コード名）の量産を始める計画だ（関連記事：［IDF2010］Sandy Bridge搭載機のデモを多数披露し、グラフィックス性能をアピール）。
Intelは、「引き続き成長が続くPC市場に向けて生産能力を拡充する。同時に、当社が取り組んでいるモバイルと組み込み分野にも対応させる」としている。これらの設備投資により、新たに800～1000人の正規雇用と、6000～8000人の一時雇用が生まれるという。
[発表資料]
