写真　インテルが米国で稼働させる32ナノ対応の4工場
写真　インテルが米国で稼働させる32ナノ対応の4工場
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　インテル日本法人の吉田和正代表取締役社長は2009年3月3日、記者向けの説明会を開催。その席上で、現在の製品より微細な32ナノメートルのプロセスに対応した製造工場を、2009年から2010年にかけて3カ所稼働させると説明した（写真）。

　現在の製造プロセスは45ナノか65ナノが主流。これがより微細な32ナノになることで、プロセサの消費電力を引き下げられる。ユーザーのITコスト削減要求が強まる中、吉田社長は「32ナノ対応プロセサの搭載で、ユーザーが消費する電力量を削減したい」とする。

　インテルの32ナノ対応の工場は現在米オレゴン州で稼働中。2009年中にオレゴン州で新たな工場を稼働させる。そして、2010年にはアリゾナ州とニューメキシコ州で立ち上げ、米国内で4拠点体制とする。32ナノ対応のプロセサ製品は2009年中に投入する計画である。