「45nmプロセスの稼働は2007年下半期」とIntel社のOtellini氏
「45nmプロセスの稼働は2007年下半期」とIntel社のOtellini氏
[画像のクリックで拡大表示]
現在,45nmルールの製造技術の立ち上げ作業を進めている米国オレゴン州の半導体工場「Fab D1D-Oregon」を紹介
現在,45nmルールの製造技術の立ち上げ作業を進めている米国オレゴン州の半導体工場「Fab D1D-Oregon」を紹介
[画像のクリックで拡大表示]
45nm製造ライン向けの新工場として建設中のイスラエルの「Fab 28-Israel」や,米国アリゾナ州の「Fab 32-Arizona」の現地の様子をライブ・カメラで紹介した
45nm製造ライン向けの新工場として建設中のイスラエルの「Fab 28-Israel」や,米国アリゾナ州の「Fab 32-Arizona」の現地の様子をライブ・カメラで紹介した
[画像のクリックで拡大表示]
Intel社のOtellini氏は,若き日のGordon Moore氏の写真を交えつつ,「ムーアの法則」を堅持して半導体技術を進化させる意向を表明した
Intel社のOtellini氏は,若き日のGordon Moore氏の写真を交えつつ,「ムーアの法則」を堅持して半導体技術を進化させる意向を表明した
[画像のクリックで拡大表示]

 米Intel Corp.は,45nm世代の半導体工場の稼働時期について,かねて表明している2007年下半期に変更がないことを開発者向け会議「Intel Developer Forum(IDF) Fall 2006」で強調した。基調講演に登壇したPresident and CEOのPaul Otellini氏は,現在15種のLSIを45nmルールで開発中であることを明らかにした。「45nmルールの適用品は2006年第4四半期にも設計が完了する。ノート・パソコンやデスクトップ・パソコン,サーバ機向けなど,すべての市場に向けて製品を準備している」(Intel社のOtellini氏)。

 基調講演では,45nmルールの製造技術に対応する工場の整備状況について語った。同社は米国オレゴン州にある工場「Fab D1D-Oregon」で現在,45nmルールの製造技術の立ち上げ作業を進めている。さらに45nm製造ライン向けに2カ所で新工場を建設中である(Tech-On!の関連記事)。イスラエルの「Fab 28-Israel」と,米国アリゾナ州の「Fab 32-Arizona」だ。「この3つの工場が,45nm製造ラインとして立ち上がることになる。いずれも2007年中に稼働する」(Intel社のOtellini氏)。

 2005年第4四半期から量産製造を始めた65nmのプロセス技術についても言及した。現在マイクロプロセサの製造に適用しており,その出荷数は既に4000万個に達した。65nmプロセスには第2世代のひずみSi技術を適用し,90nmプロセスに比べて性能を最大30%向上させている。Intel社によると,45nmプロセス技術では65nmプロセスからさらに最大20%の性能向上が図られるという。